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納米壓印光刻，能讓國產繞過ASML嗎？
納米壓印光刻能繞開光刻機嗎，納米壓印光刻對比光刻機有哪些優(yōu)劣勢，納米壓印光刻是國產的另一種出路嗎。顛覆EUV光刻，不讓ASML獨美
光刻是大批量半導體制造的核心工藝。一旦突破了光刻工具的限制，您仍然可以通過轉向各種多重圖案化方案來繼續(xù)縮放單個特征尺寸。腹背受「敵」的FinFET
GAA的戰(zhàn)役即將硝煙四起，FD-SOI生態(tài)需要一次真正的變革，FinFET在腹背受敵中，思考未來的路...顛覆傳統(tǒng)芯片制造的時刻到了
DSA能夠提供比半導體行業(yè)目前所要求的更高的分辨率，而且特征尺寸現在正接近DSA特別有效的水平。如果這些趨勢持續(xù)下去，這項技術有望在本世紀末被廣泛采用。浸潤式光刻之父林本堅欲再造江湖？
中國臺灣清華大學與臺積電、力積電等10家頂尖半導體企業(yè)合作的半導體研究學院，將于今年8月成立。
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