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EUV光刻太貴,替代方案被考慮
目前業(yè)界認(rèn)為,EUV加上先進(jìn)的193i技術(shù),如SADP和SAQP,將能夠繼續(xù)擴(kuò)展到上述5納米技術(shù)以下。
EUV
NIL
DSA
替代品
半導(dǎo)體行業(yè)觀察
2022-11-04 13:38
挑戰(zhàn)EUV光刻?NIL靠譜嗎!
芯片制造離不開光刻機(jī),且制程越先進(jìn),其重要性越凸出,占芯片制造總成本比例也越高。
芯片
EUV
NIL
半導(dǎo)體行業(yè)觀察
2021-10-28 16:38
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